Fundamental surface processes in HiPIMS plasmas

Die Oberflächen verschiedener (Komposit-) Targets wurden nach dem Zerstäuben (Sputtern) in einer High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS)-Entladung mittels Röntgen-Photoelektronenspektroskopie (XPS) in-vacuo charakterisiert. Dies wurde ergänzt durch optische Plasma-Charakterisierungstechniken wie optische Emissionsspektroskopie und ICCD-Kameraaufnahmen. Die chemische Zusammensetzung und der Bindungszustand der Targetoberfläche sowie die HiPIMS-Entladung wurden für das Argon dominierte und das Metall-dominierte HiPIMS-Regime durch Sputtern der Targets bei niedriger, mittlerer und hoher Leistung analysiert. Durch Variation der angelegten Leistung und des Argon/Sauerstoff Verhältnisses wurden für verschiedene Plasmaparameter der Oxidationszustand des Targets mit verschiedenen Stromwellenformen in Beziehung gesetzt. Es wurde unter anderem gezeigt, dass die Oxidation des Targets nicht ohne weiteres mit der Form der Stromwellen in Verbindung gebracht werden kann.

Metadaten
Author:	Vincent Layes ORCiD GND
URN:	urn:nbn:de:hbz:294-82909
DOI:	https://doi.org/10.13154/294-8290
Subtitle (English):	physics and chemistry at the plasma magnetron target interface
Referee:	Teresa De los Arcos GND, Achim von Keudell ORCiD GND
Document Type:	Doctoral Thesis
Language:	English
Date of Publication (online):	2021/08/17
Date of first Publication:	2021/08/17
Publishing Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:	2021/06/16
Creating Corporation:	Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:	Physik; Plasma; Hochleistungsimpulsmagnetronsputtern; Röntgen-Photoelektronenspektroskopie; Target
Dewey Decimal Classification:	Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:	Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):	Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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