Wissensbasierte Prozessentwicklung von PVD-Sputteranlagen zur kontrollierten Abscheidung keramischer Schichten
- Diese Arbeit befasst sich mit der Prozessentwicklung von reaktiven Niederdruckplasmen zur Synthese keramischer Schichten. Mithilfe von etablierten Plasmadiagnostiken, Schichtanalytiken und Simulationstools sowie deren Kombination werden schwer bestimmbare Prozess- & Plasmagrößen in den Zerstäubungsprozessen bestimmt und analytische Modelle an experimentellen Messergebnissen validiert. Plasmatechnische Probleme, die die Prozessperformance reduzieren, werden identifiziert und effektive Lösungskonzepte erarbeitet. Für etablierte Plasmadiagnostiken werden neu entwickelte Kalibriermethoden vorgestellt und im Experiment validiert. Durch die erhaltenen Erkenntnisse aus der Prozessentwicklung werden hinsichtlich der Plasma-Oberflächen-Interaktion einzelne Plasmaparameter isoliert und deren Einfluss auf die resultierenden Schichteigenschaften analysiert. Gegenstand der Untersuchungen sind ein Magnetronplasma mit Gleichspannung, ein gepulstes Magnetronplasma und ein kapazitiv gekoppeltes Plasma.
Download full text files
Additional Services
| Author: | Stefan RiesORCiDGND |
|---|---|
| URN: | urn:nbn:de:hbz:294-75051 |
| DOI: | https://doi.org/10.13154/294-7505 |
| Title Additional (English): | Knowledge-based process development of PVD sputter systems for a controlled deposition of ceramic films |
| Referee: | Peter AwakowiczORCiDGND, Jochen M. SchneiderGND |
| Document Type: | Doctoral Thesis |
| Language: | German |
| Date of Publication (online): | 2020/09/28 |
| Date of first Publication: | 2020/09/28 |
| Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
| Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Date of final exam: | 2020/07/03 |
| Creating Corporation: | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| GND-Keyword: | Prozessentwicklung (Technik); Niederdruckplasma; Plasmadiagnostik; Dünne Schicht; Plasma-Wand-Wechselwirkung |
| Institutes/Facilities: | Lehrstuhl für Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik |
| Dewey Decimal Classification: | Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik |
| faculties: | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
| Licence (German): |  Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |
