Charakterisierung und Regelung von Hochfrequenz-Plasmen zur Sputterabscheidung unter Berücksichtigung der Elektronendynamik und des Magnetischen Asymmetrieeffekts
- Eine der Schlüsselaufgaben der heutigen Produktionstechnik ist die Bearbeitung von Oberflächen, z.B. durch reaktives Sputtern. Die Herstellung von Dünnschichten benötigt eine präzise Regelung dieser Prozesstechnik, die auf in-situ-Messgrößen basieren sollte. Die Multipolresonanzsonde (MRP) ist dafür geeignet. In dieser Arbeit ist die MRP systematisch hinsichtlich ihrer Einsatzfähigkeit in Prozessplasmen untersucht worden. Sie bietet eine zuverlässige Auswertung der Elektronendichte, einer der wesentlichsten Plasmaparameter. In reaktiven Sputterprozessen kommen zur Erhöhung der Plasmadichte Magnetfelder zum Einsatz, welche den Magnetischen Asymmetrieeffekt induzieren können, der in dieser Arbeit erstmalig systematisch experimentell untersucht wurde. Dies ermöglicht eine Kontrolle wesentlicher Größen wie der Self-Bias Spannung, der Teilchenflüsse bzw. -energien sowie der Elektronendynamik. Die Resultate werden zur Regelung eines reaktiven Sputterprozesses mit der MRP als Sensor genutzt.
Author: | Moritz OberbergORCiDGND |
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URN: | urn:nbn:de:hbz:294-73754 |
DOI: | https://doi.org/10.13154/294-7375 |
Referee: | Peter AwakowiczORCiDGND, Ralf Peter BrinkmannORCiDGND |
Document Type: | Doctoral Thesis |
Language: | German |
Date of Publication (online): | 2020/08/31 |
Date of first Publication: | 2020/08/31 |
Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
Date of final exam: | 2020/06/15 |
Creating Corporation: | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
GND-Keyword: | Plasma; Multipolresonanz; Plasmadiagnostik; Hochfrequenzplasma; Sputtern |
Institutes/Facilities: | Lehrstuhl für Allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik |
Dewey Decimal Classification: | Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik |
faculties: | Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik |
Licence (German): | Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |