Untersuchung des lokalen Tropfenätzens mit Metalltropfen auf (111)A-orientierten GaAs-Oberflächen mittels Molekularstrahlepitaxie und der dabei entstehenden Halbleiterheterostrukturen

  • Das Lokale Tropfenätzen (LDE, eng. \(\textit {local droplet etching}\)) ist eine in situ Methode zur Nanostrukturierung von Halbleiteroberflächen. In der Arbeit wird ein Transfer dieser Technologie auf (111)A-orientierte GaAs-Oberflächen vollzogen. Der Transfer ist von Interesse, da solche Oberflächen die Herstellung von rotationssymmetrischen Nanostrukturen erlauben. Neben der Oberflächenmanipulation lassen sich mittels LDE ringförmige Halbleiterheteronanostrukturen aus Indiumgalliumarsenid sowie Quantenpunkte erzeugen. Diese werden in der Arbeit unter Einsatz von Photolumineszenz- und Kathodolumineszenzspektroskopie auf ihre Legierungszusammensetzung und energetische Struktur hin untersucht.

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Metadaten
Author:Julian RitzmannORCiDGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-64698
DOI:https://doi.org/10.13154/294-6469
Referee:Andreas D. WieckORCiDGND, Ulrich KöhlerGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2019/06/04
Date of first Publication:2019/06/04
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:2019/04/29
Creating Corporation:Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:Molekularstrahlepitaxie; InGaAs; Halbleiteroberfläche; Lumineszenzspektroskopie; Ätzen
Institutes/Facilities:Lehrstuhl für angewandte Festkörperphysik
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht