Morphology controlled high-surface area support materials for electrochemical applications

  • Mit der entwickelten Harttemplatierungsmethode zur Herstellung von ATO Materialien können die Morphologie, Partikel- und Porengrößen, sowie Antimondotierungskonzentrationen mit bisher unerreichter Präzision kontrolliert werden. Dies erlaubte die Untersuchung des Sb-Segregationsverhaltens und der elektrochemische Stabilität. Die ATO Materialien wurden als Trägermaterialien für IrO\(_{x}\)-Katalysatoren für die OER eingesetzt. Nach intensiver Untersuchung der Aktivität und Stabilität der Katalysatormaterialien konnten Trends in Abhängigkeit der Synthesetemperatur bzw. der Oxidationsstufe abgeleitet werden. Verschiedene ATO-Materialien mit hohen Oberflächen und unterschiedlicher Antimonkonzentration wurden zur Trägerung von Platinkatalysatoren für die ORR verwendet. Dabei wurde der Einfluss von Antimon auf die Performance und Stabilität der Katalysatoren untersucht. Neben ATO wurden auch \(Ti_{4}O_{7}\), TiN und SiC Materialien mit hohen Oberflächen als mögliche Trägermaterialien getestet.

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Metadaten
Author:Daniel Dariusch JalalpoorGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-62416
DOI:https://doi.org/10.13154/294-6241
Referee:Ferdi SchüthGND, Karl J. J. MaryhoferGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2019/01/17
Date of first Publication:2019/01/17
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2018/12/05
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:Elektrochemie; Trägersubstanz; Brennstoffzelle; Elektrolyse; Stabilität
Institutes/Facilities:Max-Planck-Institut für Kohlenforschung, Mülheim an der Ruhr
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
faculties:Fakultät für Chemie und Biochemie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht