MOCVD of metal nitride thin films

  • Die vorliegende Dissertation beschäftigt sich mit der Evaluation von Stickstoff koordinierten Metall Komplexen als Präkursoren für die metallorganische chemische Dampfabscheidung (MOCVD) von Metall Nitrid (WN, MoN, ZrN und AlN) Dünnschichten und Charakterisierung von dünnen Filmen. Der Einfluß der Abscheidungsbedingungen für Dünnfilmwachstumseigenschaften, die Kristallinität und Zusammensetzung analysiert. Weiterhin wurden die funktionellen Eigenschaften der Folien untersucht.

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Metadaten
Author:Nagendra Babu Srinivasan
URN:urn:nbn:de:hbz:294-42833
Subtitle (English):deposition, film characteristics and functional properties
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2015/02/04
Date of first Publication:2015/02/04
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Chemie und Biochemie
Date of final exam:2014/07/15
Creating Corporation:Fakultät für Chemie und Biochemie
GND-Keyword:MOCVD-Verfahren; Dünne Schicht; Diffusionsbarriere; Zirkoniumnitrid; Molybdän / Nitride
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie, Kristallographie, Mineralogie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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