Untersuchung mittels Ferromagnetischer Resonanz an Kobalt-, Nickel- und Eisen-Filmen aus elektrochemischer und molekularepitaktischer Abscheidung
- Kobalt- und Nickel-Schichten aus elektrochemischer Abscheidung wurden mittels frequenz- und winkelabhängiger Ferromagnetischer Resonanz (FMR) untersucht. Durch die Bestimmung der magnetischen Anisotropiekonstanten konnte Aussagen über ihre magnetische Struktur gewonnen und diese, durch den Vergleich mit strukturellen Untersuchungen, auf die Wachstumsbedingungen zurückgeführt werden. Hierzu wurden FMR-Messungen während des elektrochemischen Wachstums und, mit Hilfe eines Rastertunnelmikroskop, mit hoher lateraler Auflösung durchgeführt.
Durch frequenzabhängige FMR-Messungen konnten die magnetische Dämpfung und der g-Faktor von Molekularstrahl epitaktisch gewachsenen Eisen Schichten auf Halbleitersubstraten bestimmt werden. Dabei konnten Vorzugsrichtungen innerhalb der Probenebene erkannt werden, in denen die Dämpfung erniedrigt bzw. der g-Faktor erhöht ist. Diese Abweichung zum erwarteten richtungsunabhängigen Verhalten kann durch in situ Wachstumsuntersuchungen erläutert werden.