Control of aluminium oxide deposition by variable biasing
- Aluminiumoxid \((Al_{2}O_{3})\) wird in der Halbleiterindustrie wegen seiner dielektrischen Eigenschaften eingesetzt. Die \(\gamma\)-kristalline Phase dieses Materials wird aufgrund seiner Porosität und gleichzeitig geringen Oberflächenenergie in katalytischen Prozessen verwendet, wobei für die Erzeugung eine Temperatur größer als 600°C erforderlich ist. Die gezielt einstellbare Energieverteilungsfunktion der Ionen definiert das Ionenbombardement auf die wachsende \(Al_{2}O_{3}\)-Schicht, wodurch die Mobilität von Oberflächenatomen erhöht wird. Dieses Ionenbombardement wird durch die Anzahl an induzierten Verlagerungen in der Schicht (dpa, displacement per atom) charakterisiert. Es konnte gezeigt werden, dass \(\gamma\)-\(Al_{2}O_{3}\) bei einer Temperatur von \(500°C\) ab 0,9 dpa und bei \(550°C\) Temperatur ab 0,6 dpa beobachtet wird. Mit Hilfe von XPS-Messungen von Argonatomen, die aus dem Plasma mit in die Schicht eingebaut werden, wird eine Korrelation der Bindungsenergie des Argon-Peaks mit der Mikrostruktur der Probe nachgewiesen.
Author: | Marina PrenzelORCiDGND |
---|---|
URN: | urn:nbn:de:hbz:294-38471 |
Referee: | Achim von KeudellORCiDGND, Teresa De los ArcosGND |
Document Type: | Doctoral Thesis |
Language: | German |
Date of Publication (online): | 2013/08/05 |
Date of first Publication: | 2013/08/05 |
Publishing Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek |
Granting Institution: | Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie |
Date of final exam: | 2013/07/09 |
Creating Corporation: | Fakultät für Physik und Astronomie |
GND-Keyword: | Aluminiumoxide; Magnetron; Phasenumwandlung; Plasmaphysik; Verdampfung |
Institutes/Facilities: | Institut für Experimentalphysik II, Reaktive Plasmen |
Dewey Decimal Classification: | Naturwissenschaften und Mathematik / Physik |
faculties: | Fakultät für Physik und Astronomie |
Licence (German): | Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht |