Stationäre und gepulste induktiv gekoppelte Plasmen

Diese Arbeit zeigt einen planaren, induktiv gekoppelten 27,12 MHz HF-Plasma-Reaktor mit Faraday-Abschirmung, geeignet zur Deposition von Diamantschichten mittels Ar/H2/CH4-Plasmen. Die abgeschiedenen Diamantschichten werden mittels Lichtmikroskopie, Rasterelektronenmikroskopie und Ramanspektroskopie analysiert. Es wird gezeigt, wie stationäre und gepulste Plasmen mittels Langmuirsondendiagnostik, Energie- und Massenspektroskopie, sowie Emissionspektroskopie im sichtbaren Wellenlängenbereich diagnostiziert werden können. Die Energie- und Massenspektroskopie liefert Neutralteilchendichten und Ionenflüße. Gastemperaturen werden über Molekülrotationsbanden und Dopplerverbreiterung von He-Linien bestimmt. Die elektrischen Parameter (Strom, Spannung und Phasenwinkel) der HF-Einkopplung werden ermittelt. Eine Elektrodynamik- und Hydrodynamiksimulation liefert 2-D Plasmaparameter für stationäre Argon- und Heliumplasmen. Die Gasphasenzusammensetzung des Diamantpositionsplasmas wird modelliert.

Metadaten
Author:	Roland Schwefel
URN:	urn:nbn:de:hbz:294-29537
Subtitle (German):	Diagnostik und Deposition von Diamantschichten
Referee:	Peter Awakowicz ORCiD GND, Ralf Peter Brinkmann ORCiD GND
Document Type:	Doctoral Thesis
Language:	German
Date of Publication (online):	2010/10/04
Date of first Publication:	2010/10/04
Publishing Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Date of final exam:	2010/07/02
Creating Corporation:	Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
GND-Keyword:	Plasma; Diamant; Langmuir-Sonde; Massenspektroskopie; Modellierung
Dewey Decimal Classification:	Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik
Licence (German):	Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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