Silicon-oxide-like thin film deposition from hexamethyldisiloxane by means of non-equilibrium atmospheric pressure plasmas

  • Die Abscheidung dünner Siliziumoxid Schichten mittels Plasmen bei Atmosphärendruck ist eine viel versprechende Alternative zu herkömmlichen Niederdrucksystemen. Ein wichtiger Schritt zum Abscheiden qualitativ hochwertiger Schichten ist ein gutes Verständnis der zugrunde liegenden Prozesse. Diese Studie beschäftigt sich mit diesen Prozessen, die mit Hilfe von Atmosphärendruck-Mikroplasmajets untersucht wurden. Eine wichtige Rolle spielen insbesondere Oberflächenreaktionen, die beispielsweise durch atomaren Sauerstoff oder angeregte Spezies ausgelöst werden. Mikroplasmajets ermöglichen hier neuartige Untersuchungsmethoden, wobei mehrere Mikroplasmajets, die mit unterschiedlichen Gasen betrieben werden, gleichzeitig dasselbe Substrat beschichten bzw. behandeln können, welches sich auf einem rotierenden Probenhalter befindet. Insbesondere Kohlenstoffverlustmechanismen bei Verwendung kohlenstoffhaltiger Ausgangsmoleküle können untersucht werden.

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Metadaten
Author:Rüdiger ReuterGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-35767
Subtitle (English):the role of oxygen and surface reactions
Referee:Achim von KeudellORCiDGND, Peter AwakowiczORCiDGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2012/11/27
Date of first Publication:2012/11/27
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:2012/10/24
Creating Corporation:Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:Mikroplasma; Plasmachemie; Atmosphärendruckplasma; Beschichtung; Quarz
Institutes/Facilities:Institut für Experimentalphysik II, Reaktive Plasmen
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht