Selbstdiffusion in siliziumreichen Legierungsschmelzen

  • In der vorliegenden Arbeit wurde die Selbstdiffusion von Nickel, Titan und Cobalt in flüssigem Silizium (Si) experimentell ermittelt. Die chemisch hochreaktiven Schmelzen wurden tiegelfrei mit der elektromagnetischen Levitation prozessiert. Die Selbstdiffusion wurde mit quasi-elastischer Neutronenstreuung am TOFTOF (FRM-II, Garching) bestimmt. Für einen weiten Temperaturbereich ober- und unterhalb des Liquiduspunktes wurden Selbstdiffusionskoeffizienten im Bereich von \(10^{-8}m^{2/s}\) gemessen. Es wird vermutet, dass die Diffusion in flüssigem Si von der Majoritätskomponente also Si dominiert wird. Die erhaltenen Ergebnisse können als Eingangsdaten für Erstarrungssimulationen dienen. Weiterhin wurde die Viskosität von flüssigem Zr64Ni36 mit der Methode des oszillierenden Tropfens in einer elektrostatischen Levitationsanlage bestimmt. Ein Vergleich der gewonnenen Viskositätsdaten mit Diffusionsdaten dieser Legierung aus der Literatur zeigte eine ähnliche Temperaturabhängigkeit.

Download full text files

Export metadata

Additional Services

Share in Twitter Search Google Scholar
Metadaten
Author:Anja Ines PommrichGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-29193
Referee:Andreas MeyerORCiDGND, Hartmut ZabelORCiDGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2010/09/23
Date of first Publication:2010/09/23
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:2010/07/09
Creating Corporation:Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:Selbstdiffusion; Silicium; Flüssiger Zustand; Neutronenstreuung; Viskosität
Institutes/Facilities:Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt, Institut für Materialphysik im Weltraum
Dewey Decimal Classification:Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht