Characterization of multiple frequency driven capacitively coupled plasmas for ferro-metallic thin film sputter deposition

  • Diese Dissertation untersucht den Einfluss externer Steuerparameter auf kapazitiv gekoppelte Mehrfrequenzplasmen im Hinblick auf die PVD-Abscheidung metallischer Schichten. Dabei spielen die Kopplung dieser Parameter untereinander und deren kollektiver Einfluss auf Plasma- und Abscheidekenngrößen eine wesentliche Rolle. Diese Mechanismen werden detailliert untersucht und offengelegt. Die postulierte vollständige Entkopplung von Ionenfluss und -energie für typische Parameterbereiche der Sputterabscheidung sind nicht realisierbar. Jedoch kann gezeigt werden, dass sich ein adäquater Arbeitsbereich für industrielle Anforderungen finden lässt. Änderungen der relativen Phasenlage erlauben einen direkten Eingriff in Anregungsmechanismen des Plasmas und somit auch des Ionenflusses auf das Sputtertarget. Abscheideversuche zeigen ein komplexes Verhalten der Depositionsrate mit dem Leistungsverhältnis, wobei optimale Arbeitspunkte definiert und mit Diagnostikmethoden verifiziert werden konnten.

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Metadaten
Author:Egmont Semmler
URN:urn:nbn:de:hbz:294-23761
Document Type:Doctoral Thesis
Language:English
Date of Publication (online):2008/11/17
Date of first Publication:2008/11/17
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
Date of final exam:2008/08/14
Creating Corporation:Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik
GND-Keyword:Atomemissionsspektroskopie; PVD-Verfahren; Plasmadiagnostik; Hochfrequenzplasma; Plasmaaufheizung
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Elektrotechnik, Elektronik
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

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