Investigation of surface processes during the growth of thin films from cold atmospheric pressure plasmas

Oberflächenreaktionen sind wichtig für das Verständnis von Beschichtungsprozessen. In Niederdruckplasmen lassen sich diese durch sogenannte Teilchenstrahlexperimente gezielt untersuchen. In Atmosphärendruckplasmen gestaltet sich die Untersuchung schwieriger, da die Plasmachemie deutlich komplexer und die Teilchendichte deutlich höher ist. Im Rahmen dieser Arbeit wurde ein Aufbau entwickelt, der es ermöglich auch für Atmosphärendruckplasmen den Einfluss verschiedener im Plasma erzeugter Spezies auf das Schichtwachstum gezielt zu untersuchen. Dabei wurde der Prozess in einen Beschichtungs- und Behandlungsprozess unterteilt und auf einem rotierenden Substrat durchgeführt. Die Schichtzusammensetzung wurde insitu mit Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie untersucht. Als Untersuchungsmaterial dienten Siliziumoxid Schichten und amorphe Kohlenwasserstoff Schichten. Untersucht wurde beispielsweise der Einfluss von atomaren Sauerstoff und Ozon, atomaren Stickstoff oder atomaren Wasserstoff.

Metadaten
Author:	Katja Rügner ORCiD GND
URN:	urn:nbn:de:hbz:294-46076
Referee:	Jan Benedikt GND, Achim von Keudell ORCiD GND
Document Type:	Doctoral Thesis
Language:	English
Date of Publication (online):	2016/02/22
Date of first Publication:	2016/02/22
Publishing Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:	Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Physik und Astronomie
Date of final exam:	2015/07/14
Creating Corporation:	Fakultät für Physik und Astronomie
GND-Keyword:	Beschichtung; Siliziumdioxid; Kohlenwasserstoffe; Oberflächenreaktion; Atmosphärendruckplasma
Dewey Decimal Classification:	Naturwissenschaften und Mathematik / Physik
faculties:	Fakultät für Physik und Astronomie
Licence (German):	Keine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht

RUB » Bibliotheksportal