Kombinatorische Herstellung und Hochdurchsatz-Charakterisierung von Ta-Nb-X Schichtsystemen

  • Die Dissertation befasst sich mit der erstmaligen Herstellung und Charakterisierung der ternären Dünnschicht-Materialbibliotheken Ta-Nb-Hf, Ta-Nb-Si und Ta-Nb-Ti. Für das Ta-Nb-Si-System ist die ternäre Phase \(Ta_{0,6}Nb_{0,4}Si_{2}\) bekannt. Die Systeme wurden mittels kombinatorischer Beschichtungsverfahren hergestellt und mithilfe von Hochdurchsatz-Charakterisierungsmethoden bezüglich ihrer optischen, elektrischen und strukturellen Eigenschaften charakterisiert. Anhand von Querschnittslinien wurden auffällige Bereiche der Materialbibliotheken ermittelt und detailliert untersucht, um die elektrischen und strukturellen Eigenschaften mit dem optischen Erscheinungsbild der Schichten zu korrelieren. Auf Basis der XRD-Analysen wurde für alle drei Systeme erstmalig ein vollständiges intermetallisches Dünnschicht-Phasendiagramm erstellt.

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Metadaten
Author:Alexander SiegelGND
URN:urn:nbn:de:hbz:294-45726
Referee:Alfred LudwigORCiDGND, Werner TheisenGND
Document Type:Doctoral Thesis
Language:German
Date of Publication (online):2016/02/09
Date of first Publication:2016/02/09
Publishing Institution:Ruhr-Universität Bochum, Universitätsbibliothek
Granting Institution:Ruhr-Universität Bochum, Fakultät für Maschinenbau
Date of final exam:2015/07/06
Creating Corporation:Fakultät für Maschinenbau
GND-Keyword:Kombinatorik; Werkstoffkunde; Dünne Schicht; Phasendiagramm; Übergangsmetall
Dewey Decimal Classification:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften, Maschinenbau
Licence (German):License LogoKeine Creative Commons Lizenz - es gelten der Veröffentlichungsvertrag und das deutsche Urheberrecht